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미국 특허 가출원 제도

미국 특허 가출원 제도

미국은 2011년 미국 오바마 전 대통령이 특허법 수정안에 서명하면서, 먼저 특허를 출원(접수)한 발명가에게 특허권이 인정되는 것으로 법안이 변경되었습니다. 그러므로 발명이 완성된 경우 (물리적인 완성뿐만 아니라 개념적인 완성도 해당), 가급적이면 신속히 출원하여 앞선 출원일(filing date)을 확보하는 것이 특허권 취득에 있어 매우 중요합니다.


만약 발명이 공개되었는데, 타인이 나보다 먼저 특허 출원을 하는 경우, 해당 발명에 대한 특허권 취득이 어려울 수 있음으로, 특허는 가급적 공개 전 출원해야 하며, 공개되었다면 가급적 신속하게 출원을 해야 합니다. (특허는 비공개 출원이 원칙이며, 공개된 후에는 1년 이내에 정식 출원을 해야 합니다) 하지만, 일반적으로 특허 출원은 적지 않은 비용과 시간이 소요되는 절차입니다.

 

만약 특허를 공개해야 하는 시점에서 출원 준비가 되지 않았다면 어떻게 해야 할까요? 

기업이 투자 유치를 위해 발명을 공개해야 하거나, 시장성 확인하기 위해 제품을 출시해야 하는 등의 상황이 이러한 상황에 해당할 수 있습니다. 이런 경우 가출원(Provisional Application) 제도를 이용해 신속히 출원을 할 수 있습니다.


가출원 제도는 간단한 절차와 비용으로 출원일을 인정받을 수 있는 제도입니다. 가출원 후에는 1년 이내에 정식출원을 해야 하는데, 이때 가출원 날짜(Priority Date)를 정식 출원일로 인정받을 수 있습니다.
그뿐만 아니라 가출원 후에는 해당 발명에 대해 특허 출원 중(Patent Pending)이라는 표현을 사용할 수 있음으로 일차적인 보호 및 마케팅의 효과를 누릴 수 있습니다. 무엇보다 발명이 공개되었다면, 1년 이에 반드시 특허를 출원해야, 특허가 무효가 되는 것을 막을 수 있는데, 이때 가출원을 함으로 특허가 무효가 되는 것을 막을 수 있으며, 정식 출원까지 1년의 준비 시간을 벌 수 있습니다.

 

가출원은 다음과 같은 특징을 갖습니다.

 

  • 가출원의 혜택이 인정되는 정식 출원은 실용특허(Utility Patent)이며, 디자인특허(Design Patent)와 식물특허(Plant Patent)는 해당하지 않습니다.

  • 가출원은 심사의 대상이 아니며, 출원 시 청구항 (claims, 권리 범위)를 기재하지 않습니다.

  • 가출원 후 1년 이내 정식 출원을 하지 않는 경우, 가출원으로 인한 권리는 자동으로 소멸합니다.

  • 출원 후 발명에 개선이 있는 경우, 1년 이내 개선 사항에 대해 다시 가출원을 할 수 있다. 이 경우 최초 가출원 후 1년 이내 개선이 반영된 발명에 대한 정식 출원을 할 수 있다.